高纯度ALD/CVD前驱体供应商

公司介绍

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>上海源象化学有限公司创立于2021年，是一家专业从事提供和开发用于化学气相沉积和原子层沉积薄膜材料所需的特种电子化学品—即CVD和ALD前驱体源，以支持相关科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的学术研究。公司在苏州建设有2000平方米的研发中心和多条生产实验线，产品种类丰富。拥有完善的检测条件包括大型洁净室和ICP-MS等。团队主要由具有国际和国内著名高校教育背景的博士和硕士组成，从业经验丰富。公司产品种类丰富，可以提供文献专利中已经使用过的（目前常用的大多数）前驱体源，也可以提供新型前驱体源的设计制备服务。

>我们的核心业务是提供从实验室小量级到工业化规模的先进的 CVD 和 ALD 前驱体源，用于制备学术和工业需求的金属/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜我司的核心业务是提供研发级的先进的CVD和ALD前驱体源，用于制备学术研究和企业研发用的金属/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜。我们的检测条件能够分析PPb级的各种杂质，以确保所交付的产品适用于特定的应用。同时我们支持客户定制的分子的合成和纯化工作。

>我司提供上百种常用ALD和CVD前驱体产品，能供应从克级到公斤级规模的多种规格，产品纯度最高可达6.5N，并支持为客户定制合成。针对客户实际需求，我司提供钢瓶的定制、清洗、灌装等服务。同时提供ICP-MS等先进的材料表征服务，能够对产品和钢瓶进行ppb级别的纯度分析。配备氦质谱检漏仪，保证所有出货的钢瓶气密性良好。

业务优势

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